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发表于 2022-6-16 10:09:35 |只看该作者 |倒序浏览
据媒体报道,近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司对外披露,我国第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机研制成功。虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂,但是差距已经缩小,毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。

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