不吹不黑，谈谈中国光刻机14纳米的进度

yonica

先说台积电的历史，大约2011年刚开始做出来28纳米，2年后量产成熟；2015年实现14/16纳米量产。三星，也是2015年14/16纳米量产。
台积电从28纳米以及14纳米和7纳米的经验教训，可以缩短我们的进化时间。

中国大陆的中芯国际，全部洋枪洋炮，用的ASML光刻机，在2019年实现的14纳米量产。

我们国产的光刻机分两种：

1，上海微电子，造28纳米芯片的光刻机，在今年，2021年会交货，2022年能在芯片厂达成量产。这个不能完全“去美”化。估计，其进化到14纳米，还得2-3年，也就是2024-2025年。（不叫28纳米光刻机，而是193纳米的光源，配合各种处理手续，可以造65n纳米、40纳米、28纳米等各种制程芯片）

2，华虹旗下的上海集成电路研发中心（ICRD），就是完全“去美”化的28纳米光刻机，估计是2024年交货，2025-2026年能在芯片厂达成28纳米量产。但进化到14纳米量产，得要等到2028年。