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发表于 2024-9-16 10:25:07 来自手机 |只看该作者 |倒序浏览
所有出来解读国产光刻机具体数据的都是骗子
工业和信息化部icon《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪icon光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)的内容。这样的信息,我们普通人只要知道,光刻机这个领域,我们早就有团队在努力,而且已有突破,光刻机是一个产品,是人做出来的,中国人一定能做出来。
这样的一台光刻机,已经达到了什么水平,对应荷兰iconASML的光刻机,技术指标怎么样?如果有人出来解读,进行详细的分析,这个人一定就是骗子,没有任何例外。

1.对于光刻机,今天我们的态度就是只做不说,我们看到的信息,已经落后实际进展至少一年以上,中国光刻机的研发,也不仅仅是一个团队,一个企业,做的产品也不仅仅是一款两款。所有的信息都是不可能向外随便透露的。
任何向外透露具体信息的人,都是泄密罪,都要进监狱的。
也就是说,真正了解光刻机的具体数据,这样的人一个都不会出现在互联网上,在互联网上出现的,只要是分析光刻机的具体数据,都是骗流量的,这样的人从来没看见过光刻机,就更别说了解具体数据的情况。

2.作为一台设备,国产的光刻机是需要解决具体问题,实现产品的生产,根本不是对ASML光刻机的复制。光刻机要进行工作,无非是一个工作台,容纳更多的晶圆,要保持工作台的稳定,再有通过不同的光源,实现套刻的精度。这就是精度、效率和良率。
ASML的光刻机这些年并不是技术有了多少突飞猛进,做出不同的型号,无非是几点,一年是适应不同生产的需求,有的产品生产效率要求高,有的产品生产效率要求不那么高。可以采用不同的光刻机。还有做出不同的型号是因为价格,有的厂商不能承受很高的价格,愿意买便宜的设备。
这件事情和手机一样,同样一代的手机,其实技术都能做出来,但是还是分了普通版、pro版、MAX版,技术上有什么原则区别?
今天中国的国产光刻机,已经达到了DUV的水平,在这个大的系统里,会针对不同用户做多种产品,根本不存在要把ASML的型号都做一遍。

3.那些出来分析光刻机具体参数的人,从来都没见过光刻机,根本不明白这些参数是干什么的,然后煞有介事的分析,好像很了解光刻机的进展。今天国产光刻机,透露出来的信息就是非常基本的信息,事实上一个技术,只要核心的能力做到了,后面所有的细节,都是在这个技术基础上完善。
就像做智能汽车,电池、电机、底盘三大技术突破了,至于这辆车是5座的还是7座的,根本不重要。有人装腔作势的对这一辆车分析,说这辆车只有5座,没有7座先进,拉的人也没有7座的多,从5座到7座,还有一个非常长的时间,会做5座车,未必能做出7座车。这人就是神 经 病。
光刻机也是一样,有了光源,有了工作机台,有了相关的管理软件,想做到什么效率就可以不断提升完善。

4.今天中国的光刻机,就和智能汽车一样,我们在电机、电池、底盘上已有根本突破,是要做轿跑还是SUV、MPV,那不是我们想做什么就做什么?市场要求做什么我们就做什么?
DUV光刻机的基本能力拿下,市场要求做什么,我们就会做出什么DUV的光刻机。
最后我要说一句,其实能做出DUV的光刻机,就能做出EUV的光刻机,就是光源的不同。你不信,你不信的事多了,你什么时候相信过中国,你什么时候相信过自己,*。

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