ASML出货第三台High NA EUV光刻机

gythy1978

10月17日消息，在2024年第三季度财报披露中，ASML宣布向新客户出货第三台High NA EUV光刻系统，此前由于技术故障该公司意外提前发布了财务业绩。该公司承认，一些细分市场的复苏速度较慢，但对其长期前景仍持乐观态度。


在技术方面，ASML CFO戴厚杰在伴随ASML第三季度财报发布的视频采访中表示，客户对Low NA系统中NXE:3800E的偏好日益增加，原因是其吞吐量比之前的型号NXE:3600D高37%。2024年第四季度出货的大多数Low NA EUV设备将属于这种类型。ASML已成功展示NXE:3800E每小时220片晶圆的产能，并预计将于2025年初开始交付具有该规格的系统。


关于High NA系统，戴厚杰表示，ASML即将完成前两台交付设备的客户现场验收测试。第三台High NA设备目前正在交付给另一个主要客户。该设备售价约为3.5亿美元（约合人民币25亿元），远高于ASML标准EUV系列的1.8亿至2亿美元。High NA系统具有8mm分辨率，晶体管密度是Low NA系统的三倍，因此具有巨大的价值。迄今为止，客户已在ASML与imec的联合实验室和现场环境中使用这些系统曝光了大约10000片晶圆。


戴厚杰还指出，虽然人工智能（AI）继续推动强劲增长，但其他细分市场的复苏速度较慢，导致客户谨慎行事，对光刻系统的需求也随之延迟，尤其是在逻辑市场。存储市场的产能扩张有限，尽管对HBM和DDR5等先进技术的需求强劲。


在业务展望方面，ASML预计未来中国区的业务及其在全球业务中的比重将呈现出更常态化的水平。尽管面临短期挑战，但该公司对半导体行业的长期增长前景及其在光刻系统领域的领导地位仍然充满信心。