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标题: 中国研发出国产深紫外光刻机能生产8纳米及以下芯片 [查看完整版帖子] [打印本页]

时间: 2024-9-15 17:10

作者: Ebates 标题: 中国研发出国产深紫外光刻机能生产8纳米及以下芯片

本帖最后由 Ebates 于 2024-9-15 17:10 编辑

中国官方本月发布首台（套）重大技术装备推广应用指导目录，包含了套刻等于及少于8纳米的氟化氩光刻机，意味着中国已研发出可生产8纳米及以下芯片的国产深紫外光刻机。

中国工业和信息化部上星期一（9月9日）发布目，在录集成电路生产装备名单中包含了一款氟化氩光刻机，套刻为≦8nm。

氟化氩服务于深紫外光刻机。上述深紫外光刻机可生产8纳米及以下芯片。

时间: 2024-9-15 20:27

作者: guanshushi

套刻精度是 2次曝光之间的误差，误差为8纳米

时间: 2024-9-15 20:58

作者: Vladimir_lenin

没说的，赶紧采购吧

时间: 2024-9-15 21:00

作者: ildota

从推广产品与asml主流DUV光刻机型号参数对比，氟化氩光刻机分辨率≤65nm，套刻≤8nm，这其实是一种相对落后的干式光刻机，大致相当于20年前ASML的1460K。≤65nm，套刻≤8nm只是说了小于这个最大值，是不是有更小精度的型号不得而知，我们无法判断

作者：宁静致远fly
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来源：雪球
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时间: 2024-9-15 23:14

作者: 多线程

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时间: 2024-9-16 07:42

作者: cnqq9999

24纳米

时间: 2024-9-16 08:46

作者: asoss

近日，工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。
工信微报介绍称，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。
中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。
而就在电子专用装备目录下，集成电路设备方面出现了氟化氩光刻机和氟化氪光刻机，这两者均属于DUV光刻机。
其中氟化氩光刻机显示为分辨率≤65nm、套刻≤8nm；氟化氪则显示分辨率≤110nm、套刻≤25nm。
不过需要注意的是，套刻精度为“多重曝光能达到的最高精度”，按套刻精度与量产工艺约1：3的关系，这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片，大致相当于20年前ASML的1460K。
28nm虽然不是特别先进技术，但意义依然重大，因为这是芯片中低端和中高端的分界线，目前除了最先进的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工业级芯片大多都是28nm以上技术。

时间: 2024-9-16 08:52

作者: asoss

多线程发表于 2024-9-15 23:14
7nm的麒麟9000s能够大批量商业化生产出来，说明了什么？

华为用的海内外淘来二手光刻机

时间: 2024-9-16 08:58

作者: ildota

cnqq9999 发表于 2024-9-16 07:42
24纳米

所以28nm可以保质保量了？那也还是可以的

时间: 2024-9-16 09:47

作者: homecat123

亩产万斤

时间: 2024-9-16 11:06

作者: axuan

8纳米是指错位精度吧

时间: 2024-9-21 15:52

作者: 19099999999

多线程发表于 2024-9-15 23:14
7nm的麒麟9000s能够大批量商业化生产出来，说明了什么？

7nm 是你帮着宣传的，还是厂商宣传的。

时间: 2024-9-21 15:52

作者: 19099999999

homecat123 发表于 2024-9-16 09:47
亩产万斤

向着这个目标努力。

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